近日，有媒體報道稱，國產(chǎn)28nm光刻機即將制造出來，并且是浸潤式光刻機。
一時之間，網(wǎng)友們沸騰了，因為這個消息實在太震撼了，要知道目前光刻機已經(jīng)是國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈中，最短的短板了。
而美國針對中國的禁令，也是以光刻機為主，卡住14nm及以下的光刻機及所有先進設(shè)備。
(資料圖)
而浸潤式光刻機，雖然也屬于DUV光刻機的一種，經(jīng)多重曝光之后，卻最高可以生產(chǎn)7nm的芯片，你說讓不讓人激動？讓不讓沸騰？
幾年前，中芯國際的梁孟松就表示，7nm芯片研發(fā)已經(jīng)準(zhǔn)備好，只等光刻機，如今假如有了28nm的光刻機，這一切不是迎刃而解了么？
可以說，有了這臺28nm的光刻機，那么美國的芯片禁令，都會因此而瓦解，因為再針對14nm工藝，可能都沒什么意義了。
當(dāng)然，這則消息的真假未知，可能是真的，也可能是假的。
為何這么說？我們知道光刻機有三大件，分別是光源系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、工作臺。
DUV光刻機的光源系統(tǒng)是一樣的，都是采用193nm的紫外線，這一塊，中國已經(jīng)掌握了技術(shù)，因為90nm的光刻機，與28nm的光刻機，光源系統(tǒng)區(qū)別不是特別大。
工作臺這一塊，其實差別也不大，目前國內(nèi)的華卓精科有雙工作臺技術(shù)，也被國產(chǎn)光刻機使用。
物鏡系統(tǒng)就差別大了，物鏡系統(tǒng)是指收集光線，使其具有可控的方向性，同時將這些光線，按照要求，投射到工作臺上。
浸潤式光刻機，要在晶圓上方加一層水，然后193nm的光線，經(jīng)過水的折射后，變成等效134nm波長，所以物鏡系統(tǒng)與干式光刻機不一樣。
浸潤式光刻機的物鏡系統(tǒng)非常復(fù)雜，甚至可以說是光刻機中最昂貴最復(fù)雜的部件之一，涵蓋了光學(xué)、機械、計算機、電子學(xué)等多個學(xué)科領(lǐng)域最前沿。
而目前能夠制造浸潤式光刻機的廠商，就兩家，一家是ASML，一家是尼康。目前能夠制造浸潤式光刻機物鏡系統(tǒng)的，全球僅一家，那就是蔡司。
而ASML和尼康這兩家的浸潤式物鏡系統(tǒng)來源，均是蔡司。按照媒體的說法，浸潤式光刻機不僅要控制物鏡波像差，更要全面控制物鏡系統(tǒng)的偏振像差，全球僅有蔡司有這技術(shù)。
而蔡司與ASML關(guān)于物鏡系統(tǒng)是合作研發(fā)，雙方有協(xié)議的，蔡司不能將這些技術(shù)，提供給ASML不允許的任何第三方廠商，而尼康獲得這個技術(shù)是ASML許可的。
所以國產(chǎn)光刻機廠商，能不能掌握這個浸潤式光刻機的鏡鏡系統(tǒng)，很多網(wǎng)友是持懷疑態(tài)度的，覺得可能消息是假。
但現(xiàn)在已經(jīng)是8月份了，離年底也就4個多月時間，那么就讓我們拭目以待吧，如果真的28nm光刻機制造出來，芯片禁令就不用怕了。
原文標(biāo)題:如果中國研發(fā)出28nm光刻機，美國的芯片禁令，將被瓦解
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